Niobium sputtering mål
Niobium Sputtering Target er et materiale, der bruges i den sputterende belægningsproces, hovedsageligt til dannelse af tynde film på underlag . Niobium -målmaterialer har høj renhed, ensartet oxidfilmkvalitet, høj temperaturresistens og korrosionsbestandighed og er vidt brugt i forskellige områder såsom rum og medicinske udstyr .}}}}}}
Beskrivelse
Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co ., Ltd . er placeret i den højteknologiske udviklingszone i Baoji City, Shaanxi -provinsen . Virksomheden producerer hovedsageligt konventionelle forarbejdede profiler, plader, striber, Foils, Rods, Wires, og PIPES MADE AF TANTALE, TANTALE, FORES Niobium, Hafnium, Tantalum wolframlegering, niobium hafniumlegering C103, samt dybforarbejdede produkter såsom skibe, crucibles, sputtering mål, belægningsmål, bearbejdede dele, og Corrosion-Resister-resister i høj temperatur. udstyr .
Specifikationsparametre og målmaterialetyper
Størrelsesspecifikationer
Rund måldiameter: Standardstørrelser inkluderer diameter 25 . 4mm, 50 . 8mm, 76,2 mm, 101,6 mm, 127 mm og 152,4 mm. Tilpassede diametre kan udvides til 20-400 mm.
Firkantet målstørrelse: tykkelse 1-20 mm x bredde 10-1000 mm x længde200-2000 mm (understøtter ikke-standardtilpasning) .
Roterende mållængde: Op til 1500 mm, der kræver binding til en iltfri kobberbagplade .
Målmaterialetype
Fladt mål: Cirkulært/firkantet underlag, fladhedsafvigelse mindre end eller lig med 0 . 2mm.
Roterende mål: Cylindrisk struktur, egnet til stort område . belægningsudstyr .
Sammensatte målmateriale:
Bindende kobber bagplade: kobberlagstykkelse på 2-3 mm, interface porøsitet mindre end eller lig med 0 . 1%.
Legeringsmål (såsom TANB20): Justerbar tantal Niobium Ratio (TA =80: 20/70: 30/60: 40) .
Kerneapplikationsområder
1, halvleder- og chipfremstilling
Konduktivt lag/barriere Lag: 4N-klasse højrulitetsmålmateriale (større end eller lig med 99 . 99%) bruges som et diffusionsbarrierelag for kobberforbindelser i chips, hvilket understøtter miniaturiseringen af 5G-chips.
Opbevaringsenheder: Harddisk (HDD) Magnetisk lag og SSD -beskyttelsesfilmaflejring for at forbedre datavilagtetætheden .
2, særlig industri og videnskabelig forskning
Nuklear fysikenhed: strålingsresistent niobiumark (tykkelse 0.1-5 mm) bruges til partikeldetektorer og afskærmningskomponenter .
Aerospace: Højtemperaturbestandig belægning til turbineblade (1700 grader C Working Condition), Fremragende termisk stødmodstand .
Medicinsk udstyr: biokompatibel belægning, overflademodifikation af ortopædiske implantater .
3, ny energi og optiske enheder
Photovoltaic cells: Anti reflective layer/conductive layer, light transmittance>95%, forbedring af fotoelektrisk konverteringseffektivitet .
Energibesparende glas: Lav-E-belagt glas, infrarød reflektionskontrol, bygning af energibesparende hastighed på 30%.
LIDAR: LIDAR Optisk anti -reflekterende film reducerer tab af lysspredning og forbedrer signalnøjagtighed .
Niobium sputtering target material, as the core material of high-performance coating, has become an indispensable key component in the fields of semiconductors, new energy, and special industries due to its excellent high temperature resistance, chemical stability, and functional adjustability. In the future, with the iterative upgrading of technologies such as 5G chips and photovoltaic cells, the demand for high-purity and customized Niobium -målmaterialer vil yderligere ekspandere og fremme udviklingen af materielle forberedelsesprocesser til større præcision og grønhed .
Populære tags: Niobium Sputtering Target, China Niobium Sputtering Målproducenter, leverandører, fabrik
Send forespørgsel
Du kan også lide
